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PVDコーティング処理

PVDコーティング

PVD法(physicalVaper Deposition:物理的蒸着法)によるコーティングには、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどがあります。当社では、HCDイオンプレーティング装置及び、AIPイオンプレーティング装置を用いて、コーティングをおこなっております。

HCD法の特徴

HCD(ホローカソード)方式では、400℃~500℃の真空中で原料を溶融蒸発させた蒸着物質がイオン化して、同様にイオン化したガス体などと化合し、その生成物をグロー放電下の陰極に加速され、加工材料表面に蒸着させるものです。HCD-PVDコーティングで成膜した皮膜は、平滑性に優れており、切削工具の他、面粗度が求められる冷間成形用金型などにも適しています。

適用皮膜:TiN,TiCN,CrN

AIP法の特徴

AIP(アークイオンプレーティング)方式では、真空アーク放電を利用して、原料を蒸発させるもので、原料のイオン化率が高く、密着性に優れた皮膜を形成できます。また、蒸発源が溶解タイプではないため、合金膜の作製が可能です。一般的にAIP法では、マクロパーティクルによりHCD法に比べ面粗さが悪くなりますが、当社AIP装置はファインカソードを採用しており、他のAIP装置での皮膜より、高い面粗度を実現することが可能です。

適用皮膜:TiN,TiCN,TiAlN,CrN 他

当社の特徴

HCD装置では、最大450×600サイズの製品が処理可能のため、比較的大きな金型にも対応可能です。
当社の窒化設備では、雰囲気制御により化合物層を出さずに窒化することが可能ですので、従来窒化後に化合物層を除去してコーティングしている製品も、当社では一貫して対応することが可能です。
厚木工場真空部門及びコーティング部門は、医療機器製造業許可(許可番号:14BZ290005)を取得して、QMS適合性調査実績もございます。

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